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氨氣/一氧化二氮電漿處理鈦酸鎳/鈦酸鈷複晶硅絕緣層

文章出處:責任編輯:作者:人氣:-發表時間:2014-08-24 08:56:00【

  氨氣和一氧化二氮都是常見的化學氣體。氨氣要用于生產硝酸、尿素和其他化學肥料,還可用作醫藥和農藥的原料,也可以廣泛地應用于半導體工業、冶金工業,以及需要保護氣氛的其他工業和科學研究中。而一氧化二氮別名笑氣,“笑氣”的名稱是由于吸入它會感到欣快,并能致人發笑。一氧化二氮能溶于水、乙醇、乙醚及濃硫酸,但不與水反應。它也可以用來作為火箭和賽車的氧化劑,以及增加發動機的輸出功率。一氧化二氮是強溫室氣體??茖W家發現笑氣和氨氣能夠使鈦酸鈷及鈦酸鎳崩潰電場,從而發揮更大的潛力。下面就由紐瑞德特氣小編月月為大家解說一下吧!

 

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  利用氧化爐管合成的高介電常數材料鈦酸鈷及鈦酸鎳,其可被運用在非揮發性記憶體元件、隨機存取記憶體、及金氧半場效電晶體閘及氧化層上。將其用來取代複晶硅氧化層時,我們可以提高偶合系數使得快閃記憶體的操作電壓可以降低,

 

  在實驗中,學者證明高溫金屬氧化製程不會造成穿遂氧化層特性的劣化,并研究有關于鈦酸鈷及鈦酸鎳的物性,電性以及可靠度分析。我們首次將氧化前電漿處理及氧化后電漿處理的方式運用在這兩個介電層的製造上。結果顯示經由氨氣或一氧化二氮氣體高密度電漿化學氣相沉積做氧化前處理后,使得鈦酸鈷及鈦酸鎳崩潰電場,及可靠度方面具有較佳的表現,而氧化后處理的方式將使介電層的可靠度降低。經過氧化前氨氣或一氧化二氮電漿處理製程后,將使得其更有潛力應用在非揮發性記憶體複晶硅介電層中。

 

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